上海集成电路研发中心与新思科技公司日前宣布共同成立“icrd - synopsys先进工艺技术联合实验室”,该联合实验室将结合双方已有的技术优势和产业资源,从为中国市场提供它所需且对先进节点 (advanced node) 工艺具有重要影响的光学临近效应修正(opc)的仿真模型及验证程式出发,共同研究和开发与高阶工艺相关的各项技术。
随着当前中国集成电路产业发展速度的进一步加快,国内集成电路设计与晶圆代工等行业对先进节点工艺技术的需求也快速增长,该联合实验室将致力于通过满足行业对相关技术需求,推动中国集成电路产业发展。联合实验室设立于上海集成电路研发中心内,由一个专注于先进工艺开发和研究的本地团队负责运行,synopsys与上海集成电路研发中心都将投入相应的资源和技术力量,打造一个先进工艺开发的公共服务平台,目标为国内领先的半导体制造企业提供先进am8亚美ag旗舰的技术支持。
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